Huawei показала, как делать чипы уровня 1.4 нм без современной литографии
habr.comHuawei в понедельник на полупроводниковом симпозиуме в Шанхае показала, как собирается обойти санкции США на современную литографию: компания анонсировала новый принцип проектирования чипов под названием Tau Scaling Law и пообещала довести плотность транзисторов в своих процессорах до уровня, эквивалентного 1.4-нанометровому техпроцессу, к 2031 году.
Независимых данных о производительности компания при этом не представила.Заявление значимо потому, что массовое производство в Китае в основном упирается в 7-нанометровый процесс SMIC.
