СМИ: «ЗНТЦ разработал установку электронно‑лучевой литографии по технологии 150 нм для фотошаблонов и спецмикросхем»
В России создана суверенная установка электронно‑лучевой литографии с проектными нормами 150 нм для выпуска чипов. Оборудование разработало АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ).
Сейчас 2 опытных образца установки проходят комплексные испытания. Об этом сообщило издание Cnews со ссылкой на тендер по транспортировке установки.
habr.com