В ЗНТЦ представили первый отечественный литограф
habr.comЗеленоградский нанотехнологический центр (АО «ЗНТЦ») представил первую в России разработку фотолитографической установки с разрешением 350 нанометров, предназначенную для производства микросхем.
Установку одобрила государственная комиссия, в состав которой вошли представители ведущих отраслевых организаций и крупнейших российских производителей микроэлектроники.«Новая совместная разработка имеет ряд преимуществ: существенно увеличена площадь рабочего поля (22х22 мм по сравнению с предшествующей 3,2х3,2 мм), на ступень больше максимальный диаметр обрабатываемых пластин (200 мм вместо 150 мм).
