«Микрон» тестирует первый российский фоторезист для 90-нм производства
habr.comРоссийский производитель микроэлектроники «Микрон» (входит в группу компаний «Элемент», ELMT) заявил об успешном тестировании первого высокочувствительного фоторезиста отечественного производства для техпроцессов 90 нм.В техпроцессах «Микрона» используется 43 сверхчистых химических материала и 39 специальных электронных газов и смесей.
По словам компании, на заводе ведётся активная работа по замене всех компонентов отечественными аналогами в целях обеспечения технологического суверенитета.Фоторезист — светочувствительный полимерный материал для фотолитографии, используемый в процессе изготовления интегральных микросхем.
